解答(dá)您关于OE750的疑问

   日期：2020-05-20

OE750直读光谱仪（OES）采用(yòng)日立的一些先进技(jì )术，其出色的性能(néng)可(kě)為(wèi)整个光谱范围内金属检测提供低检出限。毋庸置疑，关于OE750的问题往往与分(fēn)析技(jì )术和操作(zuò)性能(néng)相关。

在本文(wén)中(zhōng)，日立的产(chǎn)品经理(lǐ)Wilhelm Sanders回答(dá)了在OE750演示过程中(zhōng)经常被问到的五个问题。

Q

1、OE750使用(yòng)PMT还是CCD检测器技(jì )术？

都不是。OE750使用(yòng)先进的CMOS检测器，CMOS检测器是基于半导體(tǐ)的传感器（与CCD检测器的情形相同）。与光電(diàn)倍增管（PMT）系统相比，基于半导體(tǐ)的系统更具(jù)优势，因為(wèi)其涵盖更普遍的波長(cháng)范围，由此适用(yòng)于更多(duō)元素。虽然PMT技(jì )术可(kě)实现在低灵敏度时的优良检出限，但每台传感器可(kě)涵盖有(yǒu)限的波長(cháng)。这意味着您需要在一台光谱仪中(zhōng)使用(yòng)多(duō)个PMT检测器以涵盖更普遍范围内的元素，而增加额外的性能(néng)意味着增加额外的检测器，这将导致成本增加，甚至由于此类检测器的几何尺寸太大而无法将其添加至光學(xué)系统中(zhōng)。

由于CMOS检测器具(jù)有(yǒu)比标准CCD技(jì )术更高的分(fēn)辨率和更广的动态范围，因此使用(yòng)CMOS检测器可(kě)带来更好的分(fēn)析性能(néng)——正如在OE750中(zhōng)所见的情形一样。这意味着在金属分(fēn)析中(zhōng)，我们可(kě)涵盖整个波長(cháng)范围：从119nm到766nm，这包括从氢到铀的所有(yǒu)元素（取决于应用(yòng)领域和基體(tǐ)）。

简而言之，CMOS检测器可(kě)同时為(wèi)您提供这两种技(jì )术的优势：您可(kě)获得PMT所提供的极低检出限和同等灵敏度，以及CCD所提供的全光谱范围。

Q

2、每天可(kě)检测多(duō)少件样品？

就上述所有(yǒu)基體(tǐ)而言，每次激发的标准检测时间均在15秒(miǎo)以下。以下举例说明：

铝基體(tǐ)：每次激发14.5秒(miǎo)。

钢基體(tǐ)：每次激发12.5秒(miǎo)。

其他(tā)基體(tǐ)：每次激发11-12秒(miǎo)。

OE750的设计支持轮班制工(gōng)作(zuò)，即24/7轮班制；同时，如果我们假设每件样品激发两次，则每天可(kě)完成数百个样品分(fēn)析。

但是，维护工(gōng)作(zuò)将对此产(chǎn)生影响。您需要清理(lǐ)火花(huā)台的频率取决于基體(tǐ)。如果是钢基體(tǐ)，我们建议每2000次激发后清洁一次；如果是铝基體(tǐ)，我们建议每1000次激发后清洁一次。这是因為(wèi)材料的熔点越低，在激发过程中(zhōng)沉积的材料就越多(duō)，由此将缩短清洁的时间间隔。通过无光纤的直接光路，可(kě)尽可(kě)能(néng)减少OE750的维护工(gōng)作(zuò)（以及故障停机时间）。但是，如果您需要大量、连续使用(yòng)光谱仪，则我们建议我们的服務(wù)团队每年至少為(wèi)您提供一次服務(wù)，以清理(lǐ)和维护您的光谱仪。

Q

3、 氩气消耗量和标准氩气流量是多(duō)少？

这取决于您所开展检测的次数；但是如果我们模拟几种场景，我们可(kě)以计算出一年的氩气使用(yòng)量。

氩气的恒流定量消耗為(wèi)12 L / h且分(fēn)析流量為(wèi)50 L / h。假设我们正在检测钢，则检测时间為(wèi)12.5秒(miǎo)。对于第一种场景，我们假设每天激发100次、每年工(gōng)作(zuò)200天且系统24小(xiǎo)时处于待机状态。则在此种情况下，您每年需要六瓶50 L/ 200 bar的氩气。

如果您每天测量300件样品，同时所有(yǒu)其他(tā)因素保持不变，则您需要七瓶氩气。

我们需要说明的是，由于OE750使用(yòng)具(jù)备低氩气流吹扫功能(néng)的独特中(zhōng)压系统，因此用(yòng)于光學(xué)洁净度的氩气使用(yòng)量非常低。这意味着我们可(kě)使用(yòng)无油隔膜泵，以降低污染物(wù)进入光室的风险。

因此，当您購(gòu)买光谱仪时，您还应考虑运营成本，原因是运营成本很(hěn)容易对总投资产(chǎn)生重大影响。

Q

4、使用(yòng)氩气吹扫光室需要多(duō)久？

这取决于光谱仪的初始状态。例如，针对交付后前次安(ān)装(zhuāng)的光谱仪，氩气净化光室将耗时12个小(xiǎo)时。（我们将其称為(wèi)运行完整的泵循环）。但是，光谱仪一旦安(ān)装(zhuāng)后，您应确保您的系统处于待机模式——这可(kě)确保光室始终被氩气包围。

但是，现在让我们看一下可(kě)能(néng)会关闭光谱仪的情况：

关闭光谱仪，但有(yǒu)氩气流

您需要运行泵短循环（将耗时15分(fēn)钟），并对激发样品进行五次检测（例如，铁基中(zhōng)激发样品是RE12）。该步骤对于获得良好的激发斑点并使氩气重新(xīn)开通至火花(huā)台而言是必需的。

关闭光谱仪，但没有(yǒu)氩气流

与上一种有(yǒu)氩气流的情况完全一致。但是，我们强烈建议您在每次关闭光谱仪后使用(yòng)為(wèi)该程序提供的检查样品样进行洁净度测试。您很(hěn)容易就能(néng)完成该检查，且耗时不到一分(fēn)钟。

假期关闭光谱仪

在此种情况下，您应运行12小(xiǎo)时的泵長(cháng)循环，同时您应进行洁净度测试并检查激发样品以确认激发斑点。

Q

5、使用(yòng)氮化硼垫片以减小(xiǎo)火花(huā)台孔径是否会影响分(fēn)析准确度？

是的，这确实会影响分(fēn)析准确度。与覆盖14 mm完整火花(huā)台孔径的样品相比，精(jīng)确度和准确度存在细微偏差。产(chǎn)生这种偏差的原因在于空气进入火花(huā)间隙，从而造成干扰。OE750具(jù)有(yǒu)独特的喷射气流技(jì )术，该技(jì )术可(kě)很(hěn)大程度地降低此类干扰的影响，但是随着直径的减小(xiǎo)，来自周围空气的干扰的作(zuò)用(yòng)更大。

另一个问题是氮和硼是氮化硼垫片本身的一部分(fēn)，因此无法分(fēn)析氮和硼。我们目前正在研发氮化硼的替代品，以便可(kě)以分(fēn)析氮和硼。但是很(hěn)遗憾，分(fēn)析氮气的问题仍未解决，因為(wèi)从周围空气中(zhōng)通过火花(huā)台间隙而进入设备的氮气含量过多(duō)。

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